膜厚儀與涂層測(cè)厚儀的差別

膜厚儀一般來說和涂層測(cè)厚儀是一類產(chǎn)品。

膜厚儀一般是測(cè)氧化膜層厚度，常見的鋁基，銅基氧化，測(cè)量時(shí)候用涂層測(cè)厚儀選擇N（非磁性）探頭，這樣測(cè)鋁基等氧化層也稱為膜厚儀。

涂層測(cè)厚儀正常情況下有兩種測(cè)量原理，配F合N探頭，或者FN一體探頭。氧化層一般是幾微米到十幾微米，但是普通的涂層測(cè)厚儀誤差比較大，需要用高精度的涂層測(cè)厚儀測(cè)量氧化層.

兩者是只是根據(jù)材料有細(xì)微區(qū)別，不過現(xiàn)在使用者很多不了解，也相互稱呼。

什么是膜厚儀

　　膜厚儀又名膜厚測(cè)試儀，分為手持式和臺(tái)式二種，手持式又有磁感應(yīng)鍍層測(cè)厚儀，電渦流鍍層測(cè)厚儀，熒光X射線儀鍍層測(cè)厚儀。手持式的磁感應(yīng)原理是，利用從測(cè)頭經(jīng)過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來測(cè)定覆層厚度。也可以測(cè)定與之對(duì)應(yīng)的磁阻的大小，來表示其覆層厚度。

　　臺(tái)式的熒光X射線膜厚儀，是通過一次X射線穿透金屬元素樣品時(shí)·產(chǎn)生低能量的光子，俗稱為二次熒光，,在通過計(jì)算二次熒光的能量來計(jì)算厚度值